欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  1 光刻设备  >  MA100/150e掩模对准光刻机

掩模对准光刻机

简要描述:SUSS MicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台:MA100/150e Gen2掩模对准光刻机。化合物半导体工艺,是指诸如高亮发光二极管(HB-LEDs)、功率器件、RF-MEMS等方面的半导体应用。MA100/150e Gen2具备高精度对准功能,上至0.7µm的光刻分辨率,拥有为易碎、翘曲或透明晶圆片定制的传载系统等强大功能和配置。

  • 产品型号:MA100/150e
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-27
  • 访  问  量: 233

详细介绍

基于SUSS MicroTec的光刻机经典设计,MA100/150e Gen2提供了工艺延展性,使客户能够将新的芯片设计快速投入市场,其光刻作业产量高达每小时145片。

MA100/150e Gen2针对上至4英寸的小尺寸晶圆片进行了特别优化设计。系统可以稳定地达到优于0.7µm的对准精度(直接对准)。选配的底部对准功能(BSA),对准精确度优于±1.5 µm。MA100/150e的对准单元针对LED制造工艺要求进行了特别调校,透明和表面粗糙的晶圆片都能获得好的对比度。

将一个已形成结构的掩模与圆晶对齐,然后将掩模与圆晶的距离缩得非常小(因此又叫“接近式光刻")。 在曝光过程中,掩模结构的影子被转移到圆晶上。 掩模于圆晶之间距离的精度以及曝光镜头系统的质量,一起决定了曝光结果的质量。

该方法因为速度快,应用灵活,从而成为微结构生产具有成本效益的方法,它能生产出最小4微米的微结构。 接触式曝光能达到亚微米级别的分辨率。 典型的应用范围包括圆晶级芯片尺寸封装、倒装芯片封装、凸点、微电子机械系统(MEMS)、LED和电力设备等领域。 这些系统被应用到了大规模生产的以及工业研究领域中。


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7