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高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统

简要描述:产品概述:
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。
设备用途:
热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。

  • 产品型号:DZ350
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-05
  • 访  问  量: 187

详细介绍

1.产品概述:

该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。

2.产品应用:

在实际应用中,这种系统常用于半导体、光电子、有机电子等域,用于制备各种有机薄膜、金属薄膜或复合薄膜,以满足不同器件和材料的研究与开发需求。

3.真空室:

沈阳科学仪器的高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统 DZ350的详细介绍可能因具体型号和配置而有所不同

真空室结构:U形开门

真空室尺寸:φ350×400mm

限真空度:≤6.6E-5Pa

沉积源:2个钨舟、2个有机源

样品尺寸,温度:50mmx50mm,1片,高300℃

占地面积(长x宽x高):约2.5米×1.2米×1.8米

电控描述:采用先进的控制系统,方便用户设置和调整工艺参数,如蒸发温度、沉积时间等。

手动:样品台:拥有可旋转或可移动的样品台,以便均匀沉积薄膜。

工艺:不含工艺





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