欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  3 CVD  >  SI PEALDPEALD 系统

PEALD 系统

简要描述:SENTECH True Remote CCP 源可在低温下对敏感基材和层进行均匀和保形涂层。在样品表面提供高通量的反应性气体种类,而没有紫外线辐射或离子轰击。SENTECH 原子层沉积系统可实现热和等离子体增强操作。我们的原子层沉积系统可以配置为氧化物、氮化物、二维材料沉积。3D结构可以均匀和保形涂层。凭借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等离子体沉积技术,用于沉积

  • 产品型号:SI PEALD
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-12
  • 访  问  量: 188

详细介绍

主要功能与优势

用于敏感基材的PEALD

SENTECH SI PEALD系统具有真正的远程等离子体源,可在低温<100°C)下对敏感基材和层进行均匀和保形涂层的涂层。 在样品表面提供高通量的反应性气体种类,而没有紫外线辐射或离子轰击。

原子层沉积 (ALD) 用于精确、保形和均匀的沉积

原子层沉积技术的特点是能够沉积保形和均匀的薄膜,并在原子水平上精确控制厚度,并继续在半导体器件中发挥越来越大的作用,例如高介电原理材料的沉积。原子层沉积的一些主要应用包括传感器、光电子学和 2D 材料。

用于工艺开发和优化的原位诊断

AL 实时监测器的原位诊断可实现单个 ALD 周期的超高分辨率。其优点是确认原子层沉积(ALD)制度,缩短处理时间,并降低总拥有成本。光谱椭圆偏振仪也作为原位诊断提供,为我们的原子层沉积系统具有特定的优势。

反应器清洁简单

定期清洁反应器对于稳定和可重复的原子层沉积处理至关重要。在用于清洁我们的原子层沉积系统的提升装置的帮助下,可以很容易地打开反应器室。

集群集成

原子层沉积系统可作为SENTECH集群工具的模块使用。我们的原子层沉积系统可以与SENTECH PECVD和蚀刻系统结合使用,用于工业应用。集群工具可选地具有盒到盒加载功能。

手套箱系统集成

SENTECH ALD系统与不同供应商的手套箱兼容。

灵活性和模块化

SENTECH 原子层沉积系统允许将不同的热和/或等离子体增强原子层沉积膜组合成多层结构。热和等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 支持在一个具有最佳快门的反应器中。

SENTECH使用AL实时监测仪以及宽范围光谱椭圆偏振仪,对逐层薄膜生长进行的、超快速的原位监测。

SENTECH 原子层沉积系统可实现热和等离子体增强操作。我们的原子层沉积系统可以配置为氧化物、氮化物、二维材料沉积。3D结构可以均匀和保形涂层。凭借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等离子体沉积技术,用于沉积纳米级至几微米的薄膜。



产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7