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当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  1 光刻设备  >  DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻机.

激光光刻机.

简要描述:DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化,设计用于集成电路、MEMS、微光学和微流体器件、传感器、全息图防伪特征的掩模和晶圆的高通量图案化。

  • 产品型号:DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 231

详细介绍

1. 产品概述

MPO 100是海德堡仪器推出的一款先进多用户工具,专门为复杂微结构的3D光刻和3D显微打印而设计。作为一款顶尖的设备,MPO 100采用了先进的双光子聚合(TPP)技术,这一技术在微光学、光子学、微力学以及生物医学工程等多个领域的应用中表现出色,推动了这些领域的技术进步和创新。

MPO 100所提供的多功能平台,使其在精度和生产效率方面达到一定水平。它能够在单一高效的工艺步骤中,快速而准确地生产出复杂的功能性微结构。这一特性尤其适用于需要精细设计和高可靠性的应用,如高性能光学元件、微流体器件以及生物传感器等,满足市场对高精度和高效能的需求。

MPO 100的灵活性使得它可以适应多种材料和设计需求,支持不同用户的应用。此外,该设备的高吞吐量确保了生产效率,使得科研人员和工程师能够在短时间内进行多次实验和迭代,从而加速产品开发和技术验证。

2. 主要特点

高精度和高吞吐量:以低至 100 nm 的小特征尺寸实现精度。受益于扫描速度超过 1000 mm/s 的高速 3D 打印以及体素调优。

多种材料兼容性:利用 522 nm 的强大飞激光系统高效处理各种聚合物。利用经过行业验证的ORMOCER®杂化聚合物,具有的光学、机械和化学性能。

免拼接微光学元件:通过无限视场 IFoV) 制造模式,无需拼接即可创建精确的微光学元件。

模块化3D打印平台: 3D 光刻和 3D 显微打印之间无缝切换,具有特定于应用的写入模式和基板支架。制造高度超过 1 cm 的宏观结构和表面粗糙度低至 10 nm 的微观结构。

体素调优功能:在扫描过程中对体素尺寸进行微调,以减少所需的层数。

3. 应用

微光学:无需拼接即可创建高精度微光学元件,确保无缝集成。

光子学:将光子器件直接写入基板上,从而优化器件性能和集成度。

细观力学:生产具有高精度和可靠性的复杂微机械结构。

生物医学工程:制造针对特定应用量身定制的复杂生物医学设备和支架。

量子器件:开发高精度和定制化的先进量子器件,用于沿研究和应用。

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