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高真空互联物理气相薄膜沉积系统

简要描述:概述:高真空互联物理气相薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业优质的软件控制系统;4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±2.5%,8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±3.5%,测定标准以Ti靶材,溅射200——500nm厚薄膜,边缘去5mm,随机5点取样测定为准。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2023-10-17
  • 访  问  量: 269

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详细介绍

高真空互联物理气相薄膜沉积系统概述:

沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业优质软件控制系统;4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±2.5%,8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±3.5%,测定标准以Ti靶材,溅射200——500nm厚薄膜,边缘去5mm,随机5点取样测定为准。

样品托面中心到地面的高度约1360mm

镀膜材料适用于:AuAgPtWMoTaTiAlSiCuFeNi、氧化铝,氧化钛,氧化锆,ITOAZO,氮化钽,氮化钛等;

PVD平台概述:既专注单一功能、又可通过拓展实现多平台联动:

1 关键部件接口都为标准接口,可以通过更换功能单元实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能;

2 系统平台为准无油系统,提供更优质的超洁净实验环境,保障实验结果的可靠性和重复性;

3 系统可以选择单靶单样品、多靶单样品等多层沉积方式;

4 靶基距具有腔外手动调节功能;

5 系统设置一键式操作,可以实现自动手动切换、远程控制、远程协助等功能;

6 控制软件分级权限管理,采用配方式自动工艺流程,提供开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能,可以不断更新和升级;

7 可以提供网络和手机端查询控制功能(现场要具备局域网络),实现随时查询数据记录、分析统计等功能;

8 节能环保,设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%;;

9 可用于标准镀膜产品小批量生产。

 高真空互联物理气相薄膜沉积系统-互联系统技术描述

  真空互联系统由物理气相沉积磁控溅射系统A、物理气相沉积磁控溅射系统B、物理气相沉积、电子束及热阻蒸发镀膜系统A、物理气相沉积电子束及热阻蒸发镀膜系统B、进样室、出样室、传输管、机械手等组成,可以实现样品在真空环境下不同工艺方法的样品薄膜制备和传递。




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