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槽式湿法刻蚀清洗设备

简要描述:槽式湿法刻蚀清洗设备 应用领域:RCA清洗,湿法去胶,介质层湿法刻蚀,金属层湿法刻蚀,炉管前清洗等

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-03-27
  • 访  问  量: 826

详细介绍

一、槽式湿法刻蚀清洗设备 产品介绍:

(1) 应用领域:RCA清洗,湿法去胶,介质层湿法刻蚀,金属层湿法刻蚀,炉管前清洗等

二、槽式湿法刻蚀清洗设备 技术参数:

1.晶圆尺寸:100mm~300mm

2.设备配置:

(1) 支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.S

(2) Marangoni dry 或 spin dry

(3) 自动换酸,自动补液、配液

(4) 加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等

(5) 槽体过温保护,各单元配置漏液传感器

(6) 支持化学液回收

(7) 全面支持SECS/GEM通讯协议

3. 工艺指标:蚀刻非均匀性 片内:≤4%;片间:≤4%;批次间: ≤4%;

4. 颗粒控制:增加值<30颗@0.09μm(带氧化硅膜测试,来料颗粒<50颗)

5.金属离子:<5E9 atoms/cm2

三、企业概括:

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。


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