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超景深显微镜

简要描述:超景深显微镜概述:本套系统主要用于材料表面形貌的观察;平面或三维测量。可采用3D观测模式,对被测物形状,粗糙度,表面积等进行测量,可以做高度,宽度,横截面,角度,R值,表面积,体积,线粗糙度,面粗糙度等的测量分析。同时可以做材料断口、金相的观测,陶瓷,微流道,微加工,现代加工制造,MEMS研究,微纳制造等。

  • 产品型号:customized
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-09-06
  • 访  问  量: 850

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详细介绍

一、产品概述:

超景深显微镜是一种先进的光学显微镜,能够在较大深度范围内获得清晰的图像,适用于观察复杂样品的三维结构。它通过特殊的成像技术,提供比传统显微镜更深的景深,广泛应用于生命科学、材料科学和工业检测等领域。

本套系统主要用于材料表面形貌的观察;平面或三维测量。可采用3D观测模式,对被测物形状,粗糙度,表面积等进行测量,可以做高度,宽度,横截面,角度,R值,表面积,体积,线粗糙度,面粗糙度等的测量分析。同时可以做材料断口、金相的观测,陶瓷,微流道,微加工,现代加工制造,MEMS研究,微纳制造等。

二、设备用途/原理

·设备用途

超景深显微镜主要用于生物样品、材料表面及微结构的观察和分析。常见应用包括细胞形态学研究、材料缺陷检测、电子元件的分析等。它能够帮助研究人员更好地理解样品的三维特性,提高分析的准确性和效率。

·工作原理

超景深显微镜采用多焦点成像技术,通过获取多个焦平面上的图像,并利用图像处理算法合成出一个具有更大景深的清晰图像。这种方法允许用户在一个图像中同时观察到样品的多个层次,消除了因焦平面限制而导致的细节丢失。通过这种技术,用户可以更全面地分析样品的微观特征,提升观察效果。

三、主要技术指标:

1. 光源类型:≤404nm半导体激光

2. X/Y方向测量显示分辨率:1nm

3. Z向测量显示分辨率:0.5 nm                  

4. 面扫描速度:≥125Hz、线扫描速度:≥7900Hz          

5. 角度特性:稳定测量倾角≥87.1度的斜面

6.XY载物台电动运行范围:≥100mm*100mm


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