欢迎来到深圳市矢量科学仪器有限公司网站!
咨询热线

19842703026

当前位置:首页  >  产品中心  >  半导体前道工艺设备  >  多腔等离子体刻蚀系统  >  等离子体(ICP)刻蚀设备

等离子体(ICP)刻蚀设备

简要描述:高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的用系统,可以在小的洁净室空间内安装。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 59

详细介绍

 1、公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额


 ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iPC

节省空间的生产设备

概要

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的用系统,可以在小的洁净室空间内安装。

主要特点和优点

 

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"

 可高效稳定地应用高射频功率(2千瓦以上),并实现良好的均匀性。

大流量排气系统

 排气系统直接连接到反应室,可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。

端点监测

 干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。

易于维护的设计

 TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中,便于更换。

应用

  • GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工

  • SiC、SiO₂的高速加工

  • 蚀刻铁电材料(PZT、BST、SBT、SBT)、电材料(Pt、Au、Ru、Al)和其他难以蚀刻的材料


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7