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原子层沉积(ALD)系统

简要描述:AD-230LP是一种原子层沉积(ALD)系统,能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室,仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室,且不向大气开放反应室,因此能够实现薄膜沉积的优良再现性。

  • 产品型号:AD-230LP
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-06-27
  • 访  问  量: 71

详细介绍

1、公司介绍

深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额

等离子体强化的ALD设备 AD-230LP

重复性和稳定性


概要

AD-230LP是一种原子层沉积(ALD)系统,能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室,仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室,且不向大气开放反应室,因此能够实现薄膜沉积的优良再现性。


主要特点和优点

  • 可以在原子层水平上实现均匀的层控制。

  • 可实现高纵横比结构的共形沉积。

  • 具有优良的平面内均匀性和再现性,实现了稳定的工艺。

  • 采用反应室结构,优化了原料的气路和气体流,抑制了粒子。

  • 通过采用电容耦合等离子体(CCP)系统,使反应室体积小化,缩短了气体吹扫时间,加快了一个循环的速度。

应用

  • 氮化膜(AlN、SiN)的形成和低温形成的氧化膜(AlOx、SiO2)。

  • 电子设备的闸门绝缘子

  • 半导体、有机EL等的钝化膜。

  • 半导体激光器的反射面

  • 在MEMS等3D结构上的沉积

  • 石墨烯上的沉积

  • 碳纳米管保护膜粉末涂层






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